研究观点 / 存力
存力先进封装AI 半导体

HBM 与先进封装:
被算力拉动的第二增长极

大模型对显存带宽的饥渴,把 HBM 与 2.5D/3D 先进封装推到台前。当先进制程受限,"堆带宽、堆封装"成为国产算力绕不开的另一条主路径——一条被算力硬拉出来的存力与封装产业链。

核心判断
波斯顿视角
  1. 算力的瓶颈从"算"转向"存与联"。大模型训练与推理受制于显存带宽(memory wall),HBM 的堆叠层数与带宽,直接决定单卡与超节点的有效算力——存力已成为算力系统的第一性瓶颈之一。
  2. 价值向先进封装与关键设备迁移。制程受限下,2.5D/3D 封装、TSV、混合键合成为提升集成度的主路径,价值从"造更小的晶体管"迁移到"把芯片更好地堆起来",封测设备与材料同步受益。
  3. 国产早期窗口在设备、材料与封测。HBM 本体短期高度集中于海外大厂,但键合/减薄/量测设备、TSV 与载板材料、先进封测环节存在明确的国产替代与早期切入窗口,是我们前置追踪的重点。
产业链图谱

HBM 与先进封装价值拆解

从存储颗粒到系统集成,逐环节拆解,标注价值正在迁移与国产化窗口的位置。

存储
DRAM 颗粒
先进 DRAM
存储晶圆
卡脖子
堆叠
HBM 堆叠
TSV 硅通孔
多层堆叠
核心
互连
混合键合
HB / TCB
无凸点互连
价值上移
载体
中介层/载板
硅/玻璃中介层
ABF 载板
受益
封装
2.5D/3D
CoWoS 类
Chiplet 集成
受益
设备
封测设备
键合 · 减薄
量测 · 检测
早期窗口
系统
算力集成
GPU/NPU 封装
超节点

◆ 产业链研究图谱(示意)· 环节热度由 AI + 数据持续维护 · 非投资组合披露

关键环节拆解

价值迁移到哪、机会窗口在哪

环节卡位逻辑早期机会窗口
混合键合设备3D 堆叠向无凸点互连演进的核心工艺装备,国产化率极低、壁垒最高。
TSV / 减薄量测硅通孔与晶圆减薄的关键工序装备与量测,随堆叠层数提升直接放量。
中介层 / 载板硅/玻璃中介层与高端 ABF 载板是先进封装的承载底座,供给紧张。中高
先进封测代工2.5D/3D 与 Chiplet 集成的工艺平台,绑定国产算力放量。中高
键合材料 / 电镀液临时键合胶、电镀与研磨材料等封装耗材,随产能扩张稳定受益。
AI
AI 投研视角:我们用 AI 扫描先进封装与存储领域的专利、设备招标与融资动态,自动标注每个环节的国产化缺口、设备验证进度与团队来源,快速锁定"卡脖子且有产业订单验证"的早期标的,再由投研团队核实产业落地。
早期布局方向

我们在这条链上重点看什么

混合键合装备

面向 3D 堆叠与 Chiplet 的混合键合、临时键合设备团队,尤其有产线验证者。

TSV 与减薄量测

硅通孔刻蚀、晶圆减薄与三维量测方案——决定良率的关键工序装备。

中介层与载板

硅/玻璃中介层与高端载板的国产突破,供给瓶颈中的确定性方向。

封装材料

临时键合胶、电镀液与研磨耗材等国产替代,跟随封装产能线性放量。

风险与变量
  • 供给高度集中:HBM 本体与部分核心设备由海外少数厂商主导,国产切入需从周边环节迂回突破。
  • 技术路线迭代快:凸点键合 vs 混合键合、不同中介层方案并存,早期押注需分散在通用工序。
  • 资本开支周期:先进封装扩产节奏受算力资本开支影响,需盯紧真实设备订单而非叙事。
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